P型氮掺杂ZnO薄膜的光学特性研究
日期:2020.10.16 点击数:6 来源:暂无【类型】期刊
【题名】P型氮掺杂ZnO薄膜的光学特性研究
【作者】 郭松林,徐小勇,施卫国
【摘要】以N2为P型掺杂源,利用射频磁控溅射技术,通过改变O2:N2比制备了不同N掺杂量的P型ZnO薄膜,详细研究分析了N掺杂ZnO薄膜的PL谱及电学性能。结果表明,随着O2:N2的变化,不仅薄膜的峰位发生了变化,其强度也进行相应的变化。当O2:N2为10:10时,薄膜具有三个发光峰,且UV峰发光强度最大,此时薄膜呈现出明显的P型特征。
【年份】2020
【页码】59-62
【期号】第6期
【作者单位】萍乡高等专科学校化学工程系;湖南大学材料科学与工程学院
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